QMC 1 -5

Graver QMC patronfilter är ett högpresterande filterelement konstruerat av flerskiktad smältblåst polypropylenmedia. Den unika strukturen möjliggör höga flödeshastigheter samtidigt som ett lågt differenstryck upprätthålls, vilket ger idealiska egenskaper för djupfiltrering i krävande processer.

Filtret erbjuder ett brett applikationsområde med filtreringsnivåer från 0,1 till 10 mikron och en avskiljningseffektivitet på upp till 95 %. Den graderade porstrukturen med flerskiktsmedia ger hög smutshållningskapacitet, medan den fasta porstrukturen förhindrar smutsutsläpp vid maximalt differenstryck.

Polypropenkonstruktionen gör QMC patronfilter kemiskt inert mot de flesta processvätskor, och det breda utbudet av packnings- och O-ringmaterial gör filtret mångsidigt för olika vätskor och applikationer. Filtret är tillverkat av FDA-listade material enligt Title 21 CFR sektion 174.5 och 177.1520 samt uppfyller USP Class VI.

QMC patronfilter används inom livsmedel och drycker, vattenlösningar, kemikalier, läkemedel, kosmetika, ultrarent vatten, RO-förfiltrering, bläck, DE-trap och fotoresister. Filtret tål drifttemperaturer upp till 80 °C och differenstryck upp till 5,2 bar vid 21 °C, och finns i längder från 5 till 40 tum.

Söker du ett kostnadseffektivt djupfilter med bred kemisk kompatibilitet? Christian Berners tekniska säljare hjälper dig gärna att välja rätt QMC patronfilter för din process.